Objectif du nettoyage du circuit<\/strong><\/p>\nLe nettoyage chimique \u00e9limine les d\u00e9p\u00f4ts organiques, les biofilms et le tartre des \u00e9quipements de production. Les solutions de nettoyage concentrent les mati\u00e8res organiques dissoutes et les oxydants chlor\u00e9s. La filtration au charbon actif purifie les produits chimiques de nettoyage, permettant leur r\u00e9utilisation \u00e0 plusieurs reprises et r\u00e9duisant ainsi les co\u00fbts et la quantit\u00e9 de d\u00e9chets. <\/p>\n
Conception de navires<\/strong><\/p>\nCuve sous pression verticale avec entr\u00e9e de solution de nettoyage, lit de charbon actif de 75 \u00e0 120 cm de profondeur, support en gravier, syst\u00e8me de drainage inf\u00e9rieur pour la r\u00e9cup\u00e9ration de la solution filtr\u00e9e, sortie vers le circuit de nettoyage. Temps de contact \u00e0 vide : 8 \u00e0 15 minutes. <\/p>\n
M\u00e9dias carbon\u00e9s<\/strong><\/p>\nCharbon actif granulaire \u00e0 indice d'iode \u00e9lev\u00e9 pour l'adsorption de mati\u00e8res organiques. Granulom\u00e9trie : 8 \u00d7 30 ou 12 \u00d7 40 mesh. R\u00e9sistant aux produits chimiques de nettoyage (acides, bases, oxydants). Dur\u00e9e de vie du charbon : 6 \u00e0 18 mois selon la charge organique. <\/p>\n
Pression de fonctionnement<\/strong><\/p>\nPression typique de 50 \u00e0 100 psig dans les syst\u00e8mes de nettoyage. Chute de pression du lit propre : 8 \u00e0 12 psi. L\u2019\u00e9puisement du charbon actif est indiqu\u00e9 par l\u2019apparition de mati\u00e8res organiques ou de chlore, et non par une augmentation de pression. <\/p>\n
\u00e9limination du chlore<\/strong><\/p>\nLa d\u00e9chloration prot\u00e8ge les membranes et les \u00e9quipements sensibles contre les dommages caus\u00e9s par l'oxydation. Le charbon actif \u00e9limine le chlore et les chloramines jusqu'\u00e0 une concentration inf\u00e9rieure \u00e0 0,1 ppm. Ce proc\u00e9d\u00e9 est essentiel lors du nettoyage des circuits de recirculation vers les syst\u00e8mes de traitement. <\/p>\n
Adsorption organique<\/strong><\/p>\n\u00c9limine les mati\u00e8res organiques dissoutes, les tensioactifs, les r\u00e9sidus de d\u00e9tergent, les huiles et les mati\u00e8res biologiques des solutions de nettoyage. R\u00e9duit la teneur totale en carbone organique, pr\u00e9servant ainsi l'efficacit\u00e9 du nettoyage. Pr\u00e9vient l'accumulation de mati\u00e8res organiques qui d\u00e9grade les performances de la solution. <\/p>\n
Choix des mat\u00e9riaux<\/strong><\/p>\nAcier inoxydable 316L pour environnements de nettoyage chimique. Alliages disponibles pour produits chimiques agressifs. Les composants internes r\u00e9sistent aux acides, aux bases et aux oxydants. Les mat\u00e9riaux emp\u00eachent la contamination des solutions de nettoyage ultra-pures. <\/p>\n
Exigences de lavage \u00e0 contre-courant<\/strong><\/p>\nUn lavage \u00e0 contre-courant p\u00e9riodique \u00e9limine les particules et redistribue le lit de charbon actif. D\u00e9bit : 8 \u00e0 10 gal\/min par pied carr\u00e9. Le fluide de lavage est compatible avec les produits de nettoyage. La fr\u00e9quence d\u00e9pend de la charge en particules. <\/p>\n
Demandes<\/strong><\/p>\nSyst\u00e8mes de nettoyage en place (NEP) pour semi-conducteurs, nettoyage d'\u00e9quipements pharmaceutiques, circuits de nettoyage de membranes, nettoyage d'\u00e9changeurs de chaleur et toute application n\u00e9cessitant des solutions de nettoyage chimique purifi\u00e9es pour r\u00e9utilisation<\/p>\n
Surveillance des perc\u00e9es<\/strong><\/p>\nLes analyseurs de chlore d\u00e9tectent l'\u00e9puisement de la d\u00e9chloration. Les mesures de COT ou de conductivit\u00e9 permettent de suivre l'\u00e9limination des mati\u00e8res organiques. Un seuil critique indique la n\u00e9cessit\u00e9 de remplacer ou de r\u00e9g\u00e9n\u00e9rer le charbon actif afin d'\u00e9viter une performance de nettoyage insuffisante. <\/p>\n
Solution de r\u00e9cup\u00e9ration<\/strong><\/p>\nLa solution de nettoyage filtr\u00e9e est r\u00e9utilisable plusieurs fois, ce qui r\u00e9duit la consommation de produits chimiques neufs. Sa r\u00e9cup\u00e9ration prolonge les cycles de nettoyage et diminue les co\u00fbts. L'environnement b\u00e9n\u00e9ficie ainsi d'une r\u00e9duction des volumes de d\u00e9chets. <\/p>\n
Consid\u00e9rations relatives \u00e0 la temp\u00e9rature<\/strong><\/p>\nLes solutions de nettoyage n\u00e9cessitent souvent une temp\u00e9rature \u00e9lev\u00e9e (40 \u00e0 80 \u00b0C). La capacit\u00e9 de stockage du carbone diminue \u00e0 haute temp\u00e9rature. Le choix des mat\u00e9riaux et la conception tiennent compte des conditions thermiques. <\/p>\n
Options de r\u00e9g\u00e9n\u00e9ration<\/strong><\/p>\nLes petits syst\u00e8mes remplacent le carbone us\u00e9. Les grandes installations peuvent r\u00e9g\u00e9n\u00e9rer le carbone hors site, restaurant ainsi la capacit\u00e9 de stockage. La d\u00e9cision \u00e9conomique repose sur le volume de carbone et le niveau de contamination. <\/p>\n
Avantages li\u00e9s \u00e0 la performance<\/strong><\/p>\nPermet la r\u00e9utilisation des solutions de nettoyage chimique, r\u00e9duisant ainsi les co\u00fbts. \u00c9limine le chlore et prot\u00e8ge les \u00e9quipements. Technologie d'adsorption sur charbon actif simple et \u00e9prouv\u00e9e. Prolonge l'efficacit\u00e9 du cycle de nettoyage. <\/p>\n
Normes de construction<\/strong><\/p>\nR\u00e9cipients sous pression conformes \u00e0 la section VIII de l'ASME. Mat\u00e9riaux pour le nettoyage chimique. La conception tient compte du poids du carbone et de l'exposition aux produits chimiques. Documentation compl\u00e8te incluant les calculs de temps de contact et les donn\u00e9es de compatibilit\u00e9. <\/p>\n
Les filtres \u00e0 charbon actif ERGIL pour le nettoyage chimique permettent l'\u00e9limination des mati\u00e8res organiques et du chlore, ce qui permet la r\u00e9utilisation de la solution de nettoyage dans les applications de nettoyage des semi-conducteurs, des produits pharmaceutiques et industriels.<\/p>\n<\/div><\/div><\/div><\/div><\/div>
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